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奥普光电:90纳米光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目

发布时间:2020-02-25 13:59    来源媒体:同花顺

同花顺(300033)金融研究中心2月25日讯,有投资者向奥普光电(002338)(002338)提问, 奥普光电控股股东长春光机研究所的中国下一代光刻技术极紫外光刻关键技术于2017年获得“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项)验收通过。请问情况是否属实?加速半导体光刻技术国产替代速度,是科技强国战略的重要方面,请问长春光机这几年在半导体光刻技术产业方面进展如何?是否计划通过资本市场做大做强,为国做贡献?

公司回答表示,90纳米光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目。感谢关注。

责任编辑:jdm

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