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奥普光电:2017年10月90纳米光刻机曝光光学系统在整机环境下通过验收测试

时间:2020-05-25 16:37    来源:同花顺

同花顺(300033)金融研究中心5月25日讯,有投资者向奥普光电(002338)(002338)提问, 董秘你好,请问贵公司大股东90nm光刻机验收是否属实?

公司回答表示,90纳米光刻机曝光系统是长春光机所联合其他单位在国家专项资金的支持下开展的研发项目,2017年10月曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。感谢关注。

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